Influence of N2 H2 and N2 Plasma on Binary III Nitride Films Prepared by Hollow Cathode Plasma Assisted Atomic Layer Deposition

ALEVLİ M., Gungor N., Ozgit Akgun C., Haider A., Kızır S., BIYIKLI N.

The 16th International Conference on Atomic Layer Deposition, Dublin, İrlanda, 24 - 27 Temmuz 2016

  • Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
  • Basıldığı Şehir: Dublin
  • Basıldığı Ülke: İrlanda
  • Marmara Üniversitesi Adresli: Evet