Hollow Cathode Plasma Assisted Atomic Layer Deposition of Wurtzite InN and InxGa1 xN Thin Films with Low Impurity Content
American Vacuum Society 62nd international symposium, 18 - 23 Ekim 2015, (Özet Bildiri)
- Yayın Türü: Bildiri / Özet Bildiri
- Marmara Üniversitesi Adresli: Evet