FOTOLİTOGRAFİ TEKNİĞİ İLE MANYETİK MİKRO AYGITLARIN ÜRETİMİ


Creative Commons License

Boyraz C.

MÜHENDİSLİK ALANINDA TEKNOLOJİK GELİŞMELER, Prof. Dr. Hülya kalaycıoğlu,Dr. Öğr. Üyesi Senai Yalçınkaya, Editör, Güven Kitap Yayın Dağıtım, İstanbul, ss.76-101, 2020

  • Yayın Türü: Kitapta Bölüm / Mesleki Kitap
  • Basım Tarihi: 2020
  • Yayınevi: Güven Kitap Yayın Dağıtım
  • Basıldığı Şehir: İstanbul
  • Sayfa Sayıları: ss.76-101
  • Editörler: Prof. Dr. Hülya kalaycıoğlu,Dr. Öğr. Üyesi Senai Yalçınkaya, Editör
  • Açık Arşiv Koleksiyonu: AVESİS Açık Erişim Koleksiyonu
  • Marmara Üniversitesi Adresli: Evet

Özet

Litografi kelimesi, Yunancada kelimenin tam anlamıyla taşların üzerine yazmak anlamına gelir. Litografide kullanılan yarı iletkenler için taşlarımız silikon plaka (wafer) ve oluşturulacak desenlerde ışığa duyarlı foto-dirençler ile yazdırılmaktadır. Tümleşik devre (IC) ve karmaşık yapıları inşa etmek için transistör ve bir devrenin milyonlarca transistörünü birbirine bağlayan birçok kablo, litografi ile oluşturulan desen transfer adımları en az 10 kez tekrarlanır, ancak tipik olarak tam bir devre yapmak için bu tekrar sayısı 25 ile 40 kata kadar değişmektedir. Plaka üzerine basılan her desen, önceden oluşturulmuş desenler vasıtası ile seçilen bölgelere baskılanmaktadır. Yarı iletken endüstriside temel teknolojinin üretim süreci için gerekli adımı litografi tekniği ile sağlanmaktadır. Litografi tekniği, minimum yazdırılabilir ya da işlenebilirlik özelliklerine bağlı olarak hem devre hızının, hemde entegrasyon yoğunluğunun düzenlenmesi ile mikro teknolojide önemli bir yere sahiptir. Verim ve plaka verimi büyük ölçüde litografi sürecine bağlı olduğundan, sadece aygıt performans sorunları değil, aynı zamanda bütünleşmiş devre üretiminin ekonomisi de litografi ile ilgilidir. Diğer teknolojiler arasında fotolitografi, belirli, bir maske ile, yarı iletken plaka üzerindeki özellikleri tanımlamak için kullanılmaktadır. Bu teknolojinin avantajları göz önüne alındığında önümüzdeki birkaç nesil için yarı iletken cihaz üretim teknolojisinin değişmesi beklenmemektedir. Optik projeksiyon baskı sistemleri, yüksek işlem hacmi verimi ve yüksek çözünürlük gibi büyük avantajlara sahiptir. Plaka üzerinde, fotolitografi esnasında kullanılan dalga boyundan daha küçük olan minimum özellik boyutları çözümlenebilir. Litografi araçlarının maliyetleri, çip üretim maliyetlerinin %35' ini temsil etmektedir ve önemi hergeçengün artmaktadır. Fotolitografi alanındaki gelişmeler, yarı iletken endüstrisinin sürekli büyümesi için en kritik faktörlerdir. Fotolitografi gibi, Teknoloji-Bilgisayar Destekli Tasarım metodolojileri, patlayıcı geliştirme maliyetlerinin üstesinden gelmek içinde yaygın olarak kullanılmaktadır. Maliyet düşürmeye ek olarak, tamamen deneysel geliştirme yaklaşımına kıyasla, hızlı geri dönüş süreleri ile bu sistemleri özellikle çekici kılmaktadır.